Норвежкият стартъп Lace привлече инвестиция от 40 милиона долара, за да развие алтернативна литографска технология с потенциал да промени фундаментално производството на чипове.
Подкрепена от Microsoft, младата компания със седалище в Берген обяви, ще насочи привлечените средства към развитие на ключовата си технология за следващо поколение полупроводници.
Компанията залага на хелиеви атомни лъчи вместо светлина – подход, който обещава с порядък по-малки транзистори и значително по-висока изчислителна плътност.
Ако бъде реализирана, тази иновативна технология може да измести границите на съвременните AI процесори отвъд днешните ограничения.
Днес чип-индустрията разчита на фотолитография – процес, при който светлина „рисува“ сложни схеми върху силициевите пластини. Водещ доставчик на този вид машини е ASML, чиято EUV литография доминира пазара.
Производители като TSMC и Intel използват тези литографски системи, за да намаляват размерите на транзисторите и да увеличават производителността в рамките на ограничена площ.
Подходът на Lace е радикално различен. Вместо фотони, компанията използва лъч от хелиеви атоми с ширина около 0,1 нанометра – доста по-малко от 13,5-те нанометра при съвременните EUV системи.
Този подход разкрива възможност за създаване на структури, които са до десет пъти по-малки от сегашните, и приближава индустрията до т.нар. „атомна резолюция“ в производството на чипове.
Според главния изпълнителен директор Бодил Холст, технологията може да разшири технологичната „пътна карта“ на сектора. Тя може да се окаже ключът към реализацията на изчислителни архитектури, които досега са били невъзможни.
Експерти от изследователския център Imec също виждат потенциал за драматично намаляване на размерите на транзисторите – основните градивни елементи на модерните чипове.
Залогът е значителен. По-малките елементи означават по-висока плътност, по-ниска консумация и съществен скок в производителността – особено критично за натоварвания, свързани с изкуствения интелект.
Тази перспектива поставя Lace в групата на нова вълна стартъпи, които се опитват да разчупят монопола в литографското оборудване и да предложат алтернативи на утвърдените играчи.
Компанията вече разполага с прототипи и планира да внедри тестова система в пилотна фабрика около 2029 г. Резултатите бяха представени на научен форум по литография през февруари.
Макар технологията да е все още в ранен етап, интересът на инвеститорите и научната общност подсказва, че битката за следващия пробив в чиповете навлиза в нова фаза.
