Китайската компания SMIC започна да тества собствено разработена система за производство на 7-нанометрови чипове. Това е сериозна крачка за местната полупроводникова индустрия, която търси независимост от американските технологии.
На фона на нарастващите американски санкции, успехът на SMIC в литографията в един момент беше възпрепятстван от възможността ѝ да има достъп до определен клас оборудване, което преди това се внасяше. Литографските DUV (Deep Ultraviolet) системи, разработени от китайски стартъп, бяха внедрени в производствения процес на SMIC едва наскоро, отбелязва Файненшъл таймс.
SMIC вече тества скенер за литография с дълбок ултравиолетов лъч (DUV), разработен от Yuliangsheng – китайска компания, наскоро основана в Шанхай. От известно време вносът на такова оборудване в Китай е блокиран от американските санкции, а неговата наличност е от решаващо значение за способността на SMIC да произвежда по-модерни чипове.
Преди това китайските производители на чипове разчитаха до голяма степен на холандската компания ASML, която е принудена да спазва изискванията не само на европейските власти, но и на американските, тъй като използва технологии с произход от САЩ.
Друга китайска компания, SMEE, също доставя свои собствени DUV системи, но тяхната производителност е по-ниска от тази на Yuliangsheng.
Западните компании произвеждат най-модерните чипове, използвайки оборудване с екстремна ултравиолетова технология (EUV), но доставките му за Китай отдавна са забранени и разработването на алтернатива е трудно постижимо. Дори в случая с DUV скенерите на Yuliangsheng, не всички компоненти се произвеждат в Китай, така че пълното заместване на вноса остава далеч.
SMIC е доста доволна от резултатите от първоначалните си експерименти с това оборудване, но е трудно да се предвиди колко скоро то ще бъде използвано за масово производство на чипове.
Освен това, китайският производител на чипове ще може да интегрира DUV скенерите от следващо поколение в съществуващата екосистема в най-добрия случай в рамките на една година, след като ги получи в достатъчни количества.
Специфичното оборудване е фокусирано върху имерсивна литография, която холандската компания ASML предлага и на своите клиенти извън Китай.
Тестваното оборудване с китайски произход е официално проектирано за производство на 28-нм чипове, но SMIC се надява да го използва за производство на 7-нм чипове, като използва множество фотошаблони и проходи.
При благоприятни обстоятелства това оборудване би могло да се използва и за производство на 5-нанометрови чипове – нещо, на което SMIC отдавна се надява.
Китайската компания SiCarrier, акционер в Yuliangsheng, експериментира с разработване на EUV оборудване, но е твърде рано да се говори за някакъв напредък в тази област.
Основана през 2021 г., мисията на SiCarrier е да създава литографско оборудване, което ще позволи на китайските производители на чипове да се откажат от западните аналози, като същевременно постигнат сравнимо ниво на технологично развитие.
Що се отнася до SMIC, компанията планира да започне активно да използва китайско оборудване за чипове в своите заводи не по-рано от 2027 г.
