Съединените щати се очертават като първата страна в света, която създава собствен конкурент на ASML – холандската компания, която произвежда оборудването за най-модерните чипове. Стартъпът Substrate разработва технология с използване на рентгенови лъчи за литография вместо ултравиолетова радиация.
Трудно е да си представим съвременния технологичен свят без ASML. За повечето хора извън полупроводниковата индустрия компанита е непозната, но нейните литографски машини почти винаги се използват, когато става въпрос за производство на съвременни чипове.
Сега в Съединените щати се появи компания, която е готова да оспори холандския монопол. Стартъпът Substrate планира да разработи литографски машини, които работят на малко по-различни принципи от машините на ASML.
Идеята е да се създаде литографско оборудване, сравнимо с EUV машините на ASML, но вместо обичайното екстремно ултравиолетово лъчение, Substrate планира да използва късовълнови рентгенови лъчи, генерирани от ускорител на частици.
Стартъп компанията вече е набрала 100 милиона долара от инвеститори, включително Founders Fund, и е достигнала оценка от 1 милиард долара.
Substrate твърди, че уникалната ѝ технология може да намали разходите за използване на оборудването, в сравнение с EUV машините на ASML. Компанията вече представи своята технология и някои експерти я нарекоха впечатляващо постижение.
Стартъпът планира да използва рентгенови лъчи с по-къса дължина на вълната от 13,5-нанометровата EUV технология, което позволява по-надежден печат. Substrate твърди, че ще намали значително цената на чип-литографията.
