Китай достигна пореден етап в програмата си за заместване на вноса на оборудване за производство на полупроводници. Компания Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) представи ново поколение системи за „суха” литография по време на 9-тото международно изложение China International Import Expo.
Платформата е изградена върху собствена стандартизирана архитектура и поддържа два технологични процеса: I-line и KrF, съобщи My Drivers в статия за китайската литографска машина.
Производителят SMEE упражнява пълен контрол върху разработката и доставката на ключови компоненти, включително високопрецизни оптични системи, механизми за позициониране на пластини и фотомаски, както и автоматизирани системи за пренос на материали.
Според компанията, качеството на тези системи е съпоставимо с това на водещи чуждестранни аналози. Точността на напасване (overlay accuracy) и производителността също се доближават до международните стандарти.
Освен това, системите на SMEE демонстрират стабилна работа при различни технологични процеси и са подходящи за дълготрайна, непрекъсната експлоатация в производствени линии.
Новото литографско оборудване вече се използва в китайски предприятия, които произвеждат логически чипове и чипове памет, твърдят от компанията.
По данни на SMEE, общият обем на обработените чрез тези системи силициеви пластини надхвърля 10 милиона броя, при коефициент на техническа готовност (uptime) над 92%.
Основана през 2002 г., SMEE е единственият китайски производител, способен да произвежда серийно и да доставя системи за „суха” литография.
