(снимка: ASML)
Ерата на 1-нанометровите чипове наближава. Машините за литография с висока цифрова апертура на холандската ASML ще бъдат въведени в експлоатация в близките години, според източници от компанията.
Съвместният център за изследвания и разработки на Samsung Electronics и ASML ще представи литографски машини с висока цифрова апертура не по-късно от 2027 г., съобщи Лий Ху Кунг, президент на ASML Корея, цитиран от IT Home. Тези машини ще пренесат полупроводниковата индустрия на нива под 2 нанометра.
Миналата година Samsung и ASML се споразумяха да инвестират съвместно около 750 милиона долара за създаване на център за изследвания и разработки в Южна Корея. Инженерите на двете компании си сътрудничат в технологиите за полупроводници, използвайки EUV оборудване.
[related-posts]
„Придобихме нов обект близо до кампуса ASML в Хуасонг, Южна Корея, и ще започнем строителството през следващата година. Планираме да въведем оборудване с висока цифрова апертура, когато бъде готово”, обяви Лий в отговор на въпрос относно напредъка в изграждането на центъра.
По неговите думи, това ще се случи не по-късно от 2027 г. За първи път ASML Корея разкри местоположението на бъдещия център за научноизследователска и развойна дейност и плана за внедряване на High-NA EUV оборудване.
Машините за екстремна ултравиолетова (EUV) литография с висока цифрова апертура могат да се използват за производство на чипове по технологични процеси под 2 нм. Появата на такива машини ще изостри конкуренцията между играчите в полупроводниковата индустрия.
Intel получи първата си машина от ASML в края на миналата година, а Samsung планира да започне масово производство по 1,4-нм процес през 2027 г. Анализаторите прогнозират, че литографските машини с висока цифрова апертура ще бъдат въведени скоро след това, започвайки с 1-нм процес.
1 коментар
Близо близо 6-7 години