High NA EUV оборудването на ASML е задължително за производителите на чипове, ако искат да преминат към 2-нм технологични процеси (снимка: ASML)
Intel си осигури по-голямата част от литографските машини за чипове по технология High NA EUV (екстремни ултравиолетови лъчи), които холандската ASML ще произведе до първата половина на следващата година. За конкурентите ще останат единици от тези машини.
ASML ще произведе пет броя EUV комплекти тази година, като всички ще отидат при американския чипмейкър, съобщи TheElec. Тъй като капацитетът на ASML за High NA EUV оборудване е около пет до шест единици годишно, това означава, че Intel получава всички първоначални запаси.
Конкурентите на Intel, корейските компании Samsung и SK Hynix, се очаква да се сдобият с такива комплекти някъде през втората половина на следващата година. Intel закупи превантивно оборудването, след като обяви повторното си навлизане на пазара за производство на чипове по договор (където лидер е тайванската TSMC).
High NA EUV оборудването на ASML е задължително за производителите на чипове, ако искат да преминат към 2-нанометрови технологични процеси. Всяка такава машина струва над 370 млн. долара.
NA означава цифрова апертура и показва способността на оптичната система да събира и фокусира светлината. Колкото по-висока е числената стойност, толкова по-добро е събирането на светлина. При High-NA EUV тази стойност е увеличена до 0,55 (от 0,33). Това означава, че оборудването може да “рисува” по-фини електрически вериги.
Intel възприема High-NA EUV технологията по-бързо от конкурентите, за да спечели клиенти. Компанията навлезе отново на пазара за договорно производство на чипове през 2021 г., но миналата година този бизнес ѝ причини загуби в размер на 7 милиарда щатски долара.