High NA EUV машини на ASML ще позволяват създаване на по-малки и по-бързи чипове
(снимка: ASML)
ASML, най-големият производител на оборудване за производство на чипове, отвори нова тестова лаборатория за своята литографска технология High NA EUV, в сътрудничество с белгийската полупроводникова фирма Imec.
Лабораторията във Велдховен, Холандия, ще даде възможност на водещи производители на чипове и други компании за доставка на машини и материали да работят с нов инструмент на стойност 350 милиона евро (380 милиона долара), който е първи по рода си, съобщи CNBC.
ASML доминира на пазара за литографско оборудване, което е ключово в процеса на производство на чипове – светлинните лъчи се използват за създаване на веригите в чиповете.
Сред производителите на чипове само TSMC, Samsung, Intel и компаниите за памети SK Hynix и Samsung могат да използват текущото поколение EUV (екстремен ултравиолет) машини на ASML. Новият инструмент High NA позволява до 60% по-добра резолюция и ще направи възможно производството на следващо поколение по-малки и по-бързи чипове.
ASML очаква клиентите да започнат комерсиално производство с инструмента през 2025-2026 г. Към днешна дата ASML е изпратила само една тестова машина на Intel, която планира да използва инструмента в своя 14A процес през 2025 г.
Холандската компания има поръчки от повече от дузина производители, въпреки че TSMC, най-големият ѝ клиент за EUV оборудване, заяви, че не е необходимо да използва High NA инструменти за своите A16 чипове. Очаква се те да влязат в производство през 2025 г.