Учени от Масачузетския технологичен институт (MIT) откриха евтин начин за производство 25-нанометрови чипове, съобщава TG Daily.
Технологията се базира на традиционната литография, при която лъчът “чертае” интегралната схема. Още от 1995 година производителите на процесори използват техниката на литография в дълбокия ултравиолетов диапазон на спектъра (DUV) при дължина на вълната 193 нанометра.
Технологията от ново поколение EUV използва вълни с дължина с 13,5 нанометра и изисква преоборудване на производствените мощности.
По-рано се предполагаше, че 25-нанометровите чипове ще се правят по EUV метод, но в MIT са успели да създадат такива чипове с помощта на интерференционна литография.
Неотдавна IBM също демонстрира подобен подход за производство на 25-нм чипове, но настоящата разработка на MIT предлага по-опростена технология. Нещо повече, учените твърдят, че тяхното постижение далеч не е предел в оптическата литография.
Новият метод ще се прилага в производството на памети от следващо поколение, процесори, усъвършенствани слънчеви панели и други устройства.